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HORIBA堀場HF-700A微量氫氟酸濃度監測儀 這是一種痕量氫氟酸濃度監測儀，用于管理濕法工藝中硫酸和過氧化氫中 ppm 級氫氟酸濃度。 硫酸、過氧化氫和微量氫氟酸的濃度控制，可有效去除蝕刻工藝后的聚合物殘留物，并可穩定、連續地測量到 ppm 級，從而可以進行有效的工藝管理。

原裝供應HORIBA堀場化學濃度監測儀CS-100 這是用于濕法工藝中使用的各種化學溶液的化學濃度監測儀系列。 您可以從 100 多種應用類型中選擇適合化學液體的型號。實時測量每種成分的濃度，并發出警報通知您何時更換化學溶液或自動補充。較短的測量周期能夠忠實地跟蹤濃度變化。

現貨供應HORIBA堀場CS-700化學濃度監測儀 這是一款化學濃度監測儀，可以準確測量半導體制造工藝中使用的混合液體中各成分的濃度。 非常適合控制多組分化學溶液，包括商標化學溶液。它有助于加強半導體制造工藝的質量控制，提高化學品管理的準確性。

進口HORIBA堀場CS-151F1光纖化學濃度檢測儀 這是一款光纖型化學濃度監測儀，可實現清洗、蝕刻等半導體制造工序中使用的化學物質的在線實時測量。 可以進行在線實時測量。使用一臺濃度計可以同時測量多達 4 種類型（化學溶液或微波），因此適合在一槽/單晶圓清潔設備中進行測量。

日本HORIBA堀場CS-600F光纖化學濃度監測儀 這是一種光纖型化學濃度監測儀，可測量清洗和蝕刻等半導體制造過程中使用的化學物質。 實現對濕法工藝的高溫化學溶液的直接測量。實現“快速、穩定、節省空間”，實現更高效、高精度的化學品管理。

北崎HORIBA堀場CS-620F高溫磷酸濃度監測儀 無需冷卻即可實時測量高溫磷酸的磷酸濃度監測儀。 非常適合控制半導體制造工藝中使用的磷酸濃度，主要是3D NAND閃存的SiN層*1 蝕刻工藝。 *1 SiN層：在硅晶片等上形成的硅和氮化合物的薄膜。